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蚀刻档案

TYPHOON™ S790 Quartzware 清洗系统 Versum Materials TYPHOON 石英器皿清洗系统是一种独立系统,设计用于在所有垂直喷雾过程中自动清洁和冲洗 200 或 300mm 的竖炉石英器皿。TYPHOON 提供更快且更清洁的流程,并且拥有成本更低。该工具提供两个具有同步独立操作的处理室。

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二氟化氙电子气 二氟化氙 (XeF2) 是 MEM 市场中使用的高选择性等向性蚀刻气体。Versum Materials 提供稳定、低成本的 XeF2 产品。

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OMNI™ Quartzware 清洗系统 Versum Materials Omni Quartzware 清洗系统是一种独立系统,设计用于在所有垂直喷雾过程中自动清洁和冲洗 300mm(或更小)的竖炉石英器皿。Omni 具有双处理室,右处理室中采用专门设计的夹具用于管道和衬套,左处理室中旋转传送带上有多个固定装置用于所有其他石英配件…

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六氟丁二烯 nCtrl 六氟-1,3-丁二烯 (C4F6) 用于电介质蚀刻应用。六氟-1,3-丁二烯是一种有毒、无色、无味、易燃的液化压缩气体。

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六氟丁二烯 VLSI 六氟-1,3-丁二烯 (C4F6) 用于电介质蚀刻应用。六氟-1,3-丁二烯是一种有毒、无色、无味、易燃的液化压缩气体。

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