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Versum 实验室注释

Versum Materials 如何应对先进技术节点对 PDMAT 不断增加的需求?

作为固态化学前驱体供应商,PDMAT®(Pentakisdimethylamino 钽)用于通过 ALD 或 CVD 沉积氮化钽 (TaN) 膜,Versum Materials 为需要将这种越来越受欢迎的 PDMAT 分子用于先进技术节点的客户提供了多种优势。这些优势包括:

  • 一致的高纯度和均匀性
  • 一流封装
  • 经过检验的性能
  • 成熟、可靠的全球供应链
  • 面向最终用户的精密分析能力

铜在线路后端 (BEOL) 应用中用作连线时,就需要 TaN 屏障来防止铜电迁移。TaN 在之前的节点中使用 PVD 沉积,但目前的高级节点中,设备结构更为复杂;TaN 膜厚度降低,而需要覆盖的特性的纵宽比不断提高。对于特定应用,基于 PVD 的 TaN 已经不能满足性能要求,但基于 ALD 的 TaN 却能满足更薄的薄膜所需要的薄膜均匀性和保形性。因此,半导体行业针对高级技术节点设备采用了基于 PDMAT 的 TaN 膜。

使用 PDMAT 会带来重大挑战。PDMAT 对水分和氧气非常敏感。必须控制氧杂质水平,才能获得高纯度 TaN 膜。由于这是一种固态化学前驱体,所以要实现一致的输送率可能非常困难。如果未妥善准备,则向工艺输送材料的过程中还会出现另一个重要问题,那就是颗粒污染。

通过有针对性的开发工作,Versum Materials 利用一流制造流程解决了这些挑战 - 包括通过独特的纯化流程有效移除氧气和其他杂质。我们的 PDMAT 在受控环境中处理,因此可以向客户提供优质材料。

不仅如此,Versum Materials 还建立了独特的测试能力,以优化公司的生产,为客户流程排除故障。

如需进一步了解本产品,请联系:

Xuezhong “Shawn” Jiang 博士,PDMAT 营销经理

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