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ACT NE89 ACT® NE-89 蚀刻残留物去除剂是一种含氟化学品,专为蚀刻残留物移除及/或对被污染的氧化表面进行蚀刻控制而配制。该产品专为单晶圆工具加工而设计。

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ACT XT-1100 ACT XT-1100 蚀刻残留物去除剂和正性光刻胶剥离液是一种含氟化学品,专为移除有机和高度氧化的蚀刻残留物而配制。ACT XT-1100 可迅速、高效地移除蚀刻残留物和正性光刻胶,并将低氧化对通孔、金属线和沟槽的临界尺寸造成的影响控制到最低…

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ACT 930 ACT® 930 蚀刻残余物去除剂和正性光刻胶是用于铝制程应用的低羟基胺 (HA) 产品。它的成本低,并且可以非常有效地去除蚀刻残余物。在全球半导体行业得到广泛应用。

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ACT 935UP ACT® 935 UP 蚀刻残留物去除剂和正性光刻胶去除剂是非常高效的羟胺类蚀刻残留物和正性抗蚀剂剥离液。该产品在整个半导体行业的各种应用中得到广泛认可。

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ACT 940 ACT® 940 蚀刻残余物去除剂和正性光刻胶是用于铝应用的高效羟基胺 (HA) 产品。它可非常成功地去除蚀刻残余物,同时保护暴露的铝、钛和钨。它被世界各地的半导体代工厂广泛采用。

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ACT 970 aÇT® 970蚀刻残余物去除剂和正性光刻胶剥离液可非常有效去除铝和铜应用残余物的胺基产品。

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ACT 970T ACT®970T 蚀刻残余物去除剂和正性光刻胶剥离液可有效去除耐火蚀刻残余物,同时保护暴露的铜。专门设计用于需要考虑铜腐蚀的基底。

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ACT 412 ACT® 412 正性光刻胶剥离液专门针对高效移除 III-V 类化合物和金属合金基质上的正性光刻胶而配制。

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ACT 690S ACT® 690S 蚀刻残留物去除剂和正性光刻胶剥离液是一款溶剂型产品,用于剥离重度加工的光刻胶膜和蚀刻残留物。

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ACT 690SX ACT® 690SX 是一种有机溶剂型混合物,在去除严格加工的光刻胶膜和腐蚀敏感金属以及合金上的蚀刻残余物方面特别有效。

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