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适用于 Y 型汽缸的 GASGUARD® 大宗量 eV 温度控制系统 适用于加热气体的最新一代智能制造技术 – 降低拥有成本、提供更高的流量、进一步提高安全性和可靠性。适用于加热 Y 型汽缸的独立式 GASGUARD 大宗量 eV 温度控制系统可以在两个阶段中提供:首先是 ECC 控制器,其次是新加热毯。可以进行修改,以便让系统容纳…

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GASGUARD® 主动控制阶段 1 在零漂移的不同生产条件下为高蒸汽压力气体维持、重复和稳定压力。我们的 GasGuard 主动阶段 I 技术现在允许半导体晶圆厂在零漂移配送到工具的过程中,控制掺杂剂气体、吹扫气体和高压卤化碳(NF3、硅烷、N2O、CO2、CF4 等)等高蒸汽压力气体的压力,从而实现更高的精度。

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GASGUARD® LED 照明 —— 机柜和控制器内的固态 LED 照明 GasGuard 气体柜和控制器内的 LED 照明可改善维护和故障排除过程中的用户体验。此选项仅适用于 GASGUARD AP11 型控制器。自动关闭的可选时间值为 31-99 分钟。标准设置是 99 分钟。LED 照明主要优势:提高检查可见性、气缸更换、维护和操作长使用寿命高能效独立 –…

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适用于 GASGUARD® AP11/Gen III 控制器的本地趋势软件 “本地趋势”软件选项为操作员提供模拟历史记录。此软件选项适用于 Versum Materials 的任何 AP11/Gen III 控制器。此功能可以加装安装在控制器中的编程软件加密器,并进行固件升级。允许用户跟踪任何随着时间变化的模拟变量,如配送压力、气缸压力或温度。时间跟踪…

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S-1088 排放管冲洗站 Versum Materials S-1088 型产品是一款独立全自动系统,设计用于清洁不锈钢排气管和其他带有用户可编程 DIW 和酸性混合物的晶圆厂部件。

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S-1702 蚀刻零件清洁剂 Versum Materials S-1702 型产品是一款独立全自动系统,设计用于酸蚀刻和冲洗石英室、陶瓷环、喷头和其他使用精确预编程配方的部件。用户可选择酸喷雾和喷雾冲洗循环,以提供均匀的蚀刻和完全冲洗。

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S-1087 排放工作站 Versum Materials S-1087 排放工作站是一个独立手动工作站,设计用于在排放环境中执行零件清洁和冲洗。水槽配有两个 (2) 固定喷雾棒,可通过按下“喷雾棒”按钮进行操作。气动式排水阀将允许操作员填充或倾倒…

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CHEMGUARD® 第 3 代 CG350 型化学品自动加药系统带选配的 eV 加热功能 新:第 3 代 CHEMGUARD 来了!CHEMGUARD CG350 是一款双罐液体填充 (DTLR) 机柜,旨在最大限度延长正常运行时间,可满足当今晶圆制造厂的苛刻要求。CHEMGUARD 的尺寸进一步缩小,仅为 457mm (18 英寸) x 533 mm (21 英寸),可以直接相邻地放置多个储柜。这最大程度提高....

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PH3 磷烷 ION-X® 掺杂剂气体储存和运输系统 Versum Materials 和 NuMat Technologies 宣布成立全球联盟,为我们的全球客户提供 ION-X 低于大气压的掺杂剂气体储存和输送系统解决方案。使用 ION-X 用于安全储存和输送砷烷、磷烷和三氟化硼等低于大气压的掺杂剂气体。ION-X® 凭借其金属有机框架 (MOF),可在低于大气压的情况下选择性吸附、储存和安全输送...

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QMAC® 质量监测和控制分析系统 Versum Materials 针对超高纯度气体和分配系统开发的 QMAC 质量监测和控制分析系统是一种经过验证的解决方案,可通过监测大宗量和特种气体杂质实现成功的半导体制造。QMAC® 质量监测和控制分析系统集成了超高纯度分析仪,可以有效地对氮气、氧气、氩气、氦气和氢气等超高纯度气体进行采样......

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