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探索 CMP 研磨液质量的未来

Versum Materials 平坦化业务副总裁 Laura Matz 博士于 2019 年 5 月 16 日在韩国首尔举办的 SMC Korea 2019 展会上做了题为“CMP 研磨液质量的未来”的演讲。

SMC Korea 2019 是该地区首屈一指的电子材料会议。来自各个半导体制造领域的高层管理人员聚集在一起,提供先进材料领域的最新发展情况。该活动于 2019 年 5 月 16 日(星期四) 09:00-18:30 在 COEX 的会议室 401 进行。今年的主题是“塑造电子行业未来的材料”。

她的演讲“化学机械平坦化研磨液质量的未来”介绍了行业和供应基础面临的挑战,因为行业领导者继续推动摩尔定律用于存储器和逻辑器件,以及提高材料质量的重要性。配方产品,特别是平版印刷材料、配方清洁剂和化学机械平坦化研磨液,因为用于单一配方的各种原料而在这方面代表了更严峻的挑战。随着行业的发展,数据分析和预测建模的使用对于提高这些原材料的质量至关重要,以实现前沿质量并避免偏移发展路线。在原材料供应链中更深入地推动更高质量和供应管理与预测建模相结合,对于管理产品可变性同时平衡总拥有成本至关重要。在本演讲中,了解这种方法如何提高原材料的质量。

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