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蚀刻

Airopak® F2/N2 10% 氟氮混合物 – 商业等级 Versum Materials 作为世界领先的 Airopak® 氟气混合物供应商,拥有悠久的历史,其产品可用于塑料和含氟聚合物的表面改性。Airopak F2/N2 混合物可产生屏障性能或改变经处理的塑料表面的表面活化。Versum Materials 在全球提供装在气瓶和散装管拖车中的 10% 和 20% 氟氮 (F2/N2) 气体混合物。我们专业的技术......

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Airopak® F2/N2 20% 氟氮混合物 – 商业等级 Versum Materials 作为世界领先的 Airopak® 氟气混合物供应商,拥有悠久的历史,其产品可用于塑料和含氟聚合物的表面改性。Airopak F2/N2 氟/氮混合物可产生屏障性能或改变经处理的塑料表面的表面活化。Versum Materials 在全球提供装在气瓶和散装管拖车中的 10% 和 20% F2/N2 氟氮气体混合物。我们的专家......

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八氟环戊烯 C5F8 超大规模集成电路 (VLSI) 级八氟环丁烷 (99.99%) 我们用于半导体应用的最高纯度级别。八氟环丁烷是一种有毒、不易燃、沸点低 (81°F) 的无色液体,有轻微的异味。  

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三氟化氯 VLSI 三氟化氯 (ClF3) 是一种几乎无色的气体,具有类似于氯或芥子气味的刺激性气味,气味阈值极低。该产品配置只在欧洲销售。

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氯 VLSI 氯 (CL2) 是一种有毒的、有腐蚀性的绿黄色气体,会刺激眼睛和呼吸系统。该产品只在欧洲销售。

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三氟甲烷卤烃 23 VLSI 三氟甲烷 (CHF3) 是各向异性蚀刻气体,用于在硅和氧化硅中形成高​深​宽​比特征。该产品也称为卤烃 23。我们的 R23 VLSI 级仅在欧洲销售。

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二氟化氙电子气 二氟化氙 (XeF2) 是 MEM 市场中使用的高选择性等向性蚀刻气体。Versum Materials 提供稳定、低成本的 XeF2 产品。

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四氟化硅 VLSI 四氟化硅 (SiF4) 是一种氟源,用于需要控制氟浓度形成低 k 膜的工艺。

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三氟甲烷卤烃 23 三氟甲烷 (CHF3) 是各向异性蚀刻气体,用于在硅和氧化硅中形成高​深​宽​比特征。该产品也称为卤烃 23。

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三氟化氮 NG 三氟化氮 (NF3) 用于硅半导体工艺应用。

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